LITHOGRAPHIE

Système d'exposition par flot de LED UV NXQ200

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  • Le système d’exposition UV-LED Flood NXQ200 est conçu pour remplacer les sources lumineuses conventionnelles à base de Hg (mercure) fonctionnant soit en large bande soit en ligne i (365nm).

  • L’intensité des UV est entièrement réglable par logiciel. Les intensités UV, telles que mesurées sur le plan d’exposition sont :

    • Jusqu’à 31mW/cm2 @ 365nm

    • Jusqu’à 75mW/cm2 @ 405nm

  • Les intensités du NXQ200 correspondent à des sources de lumière Hg fonctionnant à 1 000 W.

  • Accepte des plaquettes d’une taille allant jusqu’à 200 mm

  • Contrôle logiciel de la ou des longueurs d’onde et de l’intensité d’exposition

  • Longue durée de vie et aucun entretien de routine grâce à la source lumineuse UV-LED.

  • Intensité constante, surveillée et contrôlée par la métrologie embarquée.

  • Allumage instantané, sans réchauffement de la source lumineuse

  • Faible consommation d’énergie

  • Système de refroidissement liquide en circuit fermé

  • Interface USB à distance

  • Non-uniformité <3%

  • Contrôleur monté en rack 19″ 4U

  • La taille standard de la source lumineuse est de 10 “x10 “x36”, des modèles personnalisés sont disponibles.

  • Configurations disponibles pour :

    • Polymérisation UV

    • Masque d’ombre/perle d’arête

    • 1er Masque

    • Remplacement des unités Hg Flood Expose basées sur des rails

  • Biotechnologie, Microfluidique, Microélectronique, LED, MEMS, Semi-conducteurs composés, Solaire, Optoélectronique
  • Emballage avancé :
    • 3DIC
    • SIP
    • WLP
    • Interposeur 2.5D

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