LITHOGRAPHIE

Le système d’exposition UV-LED Flood NXQ200 est conçu pour remplacer les sources lumineuses conventionnelles à base de Hg (mercure) fonctionnant soit en large bande soit en ligne i (365nm).

L’intensité des UV est entièrement réglable par logiciel. Les intensités UV, telles que mesurées sur le plan d’exposition sont :

• Jusqu’à 31mW/cm2 @ 365nm

• Jusqu’à 75mW/cm2 @ 405nm

Les intensités du NXQ200 correspondent à des sources de lumière Hg fonctionnant à 1 000 W.

Accepte des plaquettes d’une taille allant jusqu’à 200 mm

Contrôle logiciel de la ou des longueurs d’onde et de l’intensité d’exposition

Longue durée de vie et aucun entretien de routine grâce à la source lumineuse UV-LED.

Intensité constante, surveillée et contrôlée par la métrologie embarquée.

Allumage instantané, sans réchauffement de la source lumineuse

Faible consommation d’énergie

Système de refroidissement liquide en circuit fermé

Interface USB à distance

Non-uniformité <3%

Contrôleur monté en rack 19″ 4U

La taille standard de la source lumineuse est de 10 « x10 « x36 », des modèles personnalisés sont disponibles.

Configurations disponibles pour :

• Polymérisation UV

• Masque d’ombre/perle d’arête

• ^1er Masque

• Remplacement des unités Hg Flood Expose basées sur des rails