LITHOGRAPHIE
Série NXQ4000 - R&D et production en ligne pilote
L’aligneur de masques de la série NXQ4000 est idéal pour les universités et les lignes de production pilotes. Il prend en charge des substrats allant de pièces à 200 mm et dispose d’une interface facile à utiliser avec un chargement simple des masques par le haut. L’aligneur de masques semi-automatique de la série NXQ4000 combine une conception innovante avec un alignement de précision et des fonctions d’exposition. Le séquençage automatique rend le système très facile à apprendre et à utiliser et convient bien aux laboratoires multi-utilisateurs. L’extrême fiabilité, le faible coût de possession et la polyvalence du NXQ4000 en ont fait le choix des installations de fabrication, des centres de R&D et des programmes universitaires du monde entier, pour une large gamme de technologies.
L’aligneur de masque de la série NXQ4000 est idéal pour les applications de microélectronique, LED / HB LED, 3D IC, SIOP, WLP, 2.5D Interposer, MEMS, BioMEMS, MicroFluidics, Compound Semi, Solar (HCPV), et Optoélectronique.
Caractéristiques et spécifications du NXQ4000
- Taille des substrats des pièces jusqu’à 200mm (8″) de diamètre
- Microscope VideoView avec caméras haute définition et deux moniteurs HD. Alignement en champ fractionné/champ unique, objectifs 5x corrigés à l’infini, zoom optique 7x (sélectionnez le champ de vision et le grossissement souhaités). Objectifs optionnels – 2x, 7.5x, 10x ou 20x
- Illumination par LED à travers l’objectif
- Optique d’impression à faible diffraction et à haute résolution
- Contact à pression douce/dure. Modes d’exposition Vacuum Contact et Manual Proximity
- Joystick manuel X-Y et platine d’alignement thêta micrométrique. Micromètres X-Y en option
- Axe Z – Palier à air sans frottement – très fiable et sans entretien
- Chargement manuel facile des plateaux pour le chargement et le déchargement des substrats.
- Compensation automatique de l’erreur de calage et déplacement pour aligner l’écart après le chargement de la plaquette.
- Chargement des masques par le haut
- Alimentation UV UltraSense à puissance constante ou à intensité constante
- Table d’isolation vibratoire incluse en standard
- Utilisation très intuitive et facile, bien adaptée aux laboratoires multi-utilisateurs.
- Extrêmement fiable, faible maintenance et faible coût de possession
- Séquençage de la minuterie d’exposition pulsée
- Alignement de la face arrière par infrarouge (IR)
- Alignement optique arrière (OBS)
- Optique de visualisation DIC / Nomarski – Idéale pour les substrats et films transparents qui nécessitent un contraste accru.
- Optique d’exposition aux UV-LED
- Matériel UV-NIL intégré, logiciel, polymères, tampon d’essai et méthodologie complète pour le flux complet du processus UV-NIL. Livraison garantie d’un processus de 100 nm qui peut être affiné pour des tailles de caractéristiques de 10 à 20 nm.
Comprend le soutien aux processus. - Optique d’exposition NUV Hg (280-350nm) / MID UV (280-450nm) / DUV Hg-Xe (220-280nm)
- Modes d’impression : Modes d’impression par pression douce/dure, par contact sous vide et par proximité manuelle.
- Résolution d’impression :
- = / >0,6 microns (avec contact sous vide-)
- Étape d’alignement
- Course d’alignement : X-Y +/- 3,8 mm
- Course d’alignement Theta : +/- 7 degrés
- Recouvrement de l’alignement de la face supérieure* : moins de 1 micron
- Recouvrement de l’alignement de la face inférieure* : moins de 1,5 micron (OBS), moins de 3 microns (IR)
* Dépend de l’opérateur/du processus Vidéo View
- Gamme de déplacement des microscopes à visée vidéo
- Déplacement du microscope gauche X : -22mm au bord de la plaquette
- Avec des objectifs décalés : -5,5 mm par rapport au bord de la tranche.
- Déplacement du microscope droit X : +22mm jusqu’au bord de la plaquette
- Avec des objectifs décalés : +5,5 mm par rapport au bord de la plaquette
- Déplacement du microscope R/L en Y : +/- 12,7 mm (Microscope à déplacement en Y étendu en option : +12,7 mm, -88 mm)
- Lampe UV/ Optique d’exposition aux UV
- Lampe UV : 350/500W ou 500/1KW
- Optique d’exposition UV : (350-450 nm) Standard
- Optique d’exposition NUV (en option) : (280-350nm)
- Optique d’exposition MID UV (en option) : (280-450nm)
- Optique d’exposition DUV (en option) : (220-280nm)
- Uniformité UV : +/- 4%, champ de 6″ de diamètre, +/- 5%, champ de 8″ de diamètre
- Électronique / Contrôle
- Programmation et contrôle
- PLC avec écran LCD
- Interface opérateur intuitive avec fonctionnement par menus
- Configuration requise
- Voltage : 115VAC,/60 Hz ou 240VAC 50Hz
- Air comprimé : 5,4 bars (80 PSI)
- Vide : -0,7 bar (21″ Hg)
- Azote (ou CDA) : 3 bar (40 PSI)
- Données du système / module
- L x P x H : ~.1220mm x 915mm x 1423mm, (48″ x 36 “x 56”)
- Poids : 217Kg ( 480 Lb)