Neutronix Quintel (NXQ) présente le système d’exposition aux inondations LumeX

Morgan Hill, Californie (19 août 2025) – Neutronix-Quintel, Inc. (NXQ), l’un des principaux fournisseurs d’équipements de photolithographie de production, est fier de présenter le Système d’exposition aux crues LumeX – notre dernière avancée en matière de photolithographie de précision. Conçue pour remplacer les sources lumineuses conventionnelles au mercure, fonctionnant en large bande ou en ligne, LumeX utilise des UV-LED de nouvelle génération pour offrir une exposition cohérente et contrôlée. Intensité est contrôlé et ajusté en temps réel par la métrologie embarquée. Pas d’échauffement. Pas de dérive. Pas de temps d’arrêt. Avec contrôle logiciel de la longueur d’onde et de l’intensité, LumeX offre une flexibilité inégalée, y compris une source de lumière polychromatique pour une large gamme de processus. Sa longue durée de vie LA CONCEPTION UV-LED ne nécessite aucune maintenance de routine, ce qui réduit considérablement les coûts d’exploitation. La capacité d’allumage instantané augmente l’efficacité, tandis que la faible consommation d’énergie minimise l’impact sur l’environnement. Le système compact et modulaire conception de table prend en charge des tailles de plaquettes jusqu’à 200 mm avec un faisceau lumineux uniforme de 200 mm. Avec connectivité sans filEn outre, vous pouvez faire fonctionner le système à partir d’une tablette, ce qui vous offre une liberté et une commodité inégalées. Même l’écran lumineux de LumeX LED s’allume et s’éteint d’un simple effleurement, ajoutant une touche visuelle de design moderne à votre espace de travail.

Selon Brett Arnold, président de NXQ, « sur la base des exigences des clients, NXQ a conçu et livré son système d’exposition aux inondations de nouvelle génération, le système d’exposition aux inondations LumeX. Le système d’exposition aux inondations Système d’exposition aux inondations LumeX utilise la même source de lumière UV-LED que celle que nous avons conçue pour nos aligneurs de masques avancés. Tous les travaux ont été réalisés pour offrir ce produit en tant que système autonome ou intégré à nos produits lithographiques avancés. Le système d’exposition aux inondations Système d’exposition par inondation LumeX a de nombreuses applications au sein de l’usine, notamment le séchage UV, le masque d’ombre/le bourrelet de bordure, le 1e masque, ou en remplacement des unités d’exposition à l’Hg sur rail..« 

Le système d’exposition aux inondations Système d’exposition aux inondations LumeX est conçu pour remplacer les outils conventionnels d’exposition par inondation à large bande ou i-line. La source de lumière UV-LED remplace les sources de lumière Hg traditionnelles qui fonctionnent entre 250 W et 1 000 W, a une sortie spectrale sélectionnable et est entièrement réglable par logiciel, fournissant des intensités au niveau de la plaquette jusqu’à 75 mW/cm. 2 à la longueur d’onde de 405nm, ou jusqu’à 31 mW/cm2 à 365nm. Les Le système d’exposition par inondation LumeX permet d’exposer des plaquettes jusqu’à 200 mm, avec une non-uniformité supérieure à 3 %, sans qu’il soit nécessaire de procéder à des réglages de routine grâce à l’autosurveillance embarquée et à la précision du contrôle de la dose.

À propos de NXQ

NXQ fabrique des équipements de photolithographie et de métrologie pour des clients qui développent et fabriquent une large gamme de produits semi-conducteurs, notamment les MEMS, le Wafer Level Packaging (WLP), le 3DIC, le System in Package (SIP), le Compound Semiconductor (CS), la microfluidique, l’optoélectronique et les technologies des sciences biologiques. NXQ a été fondée par des vétérans de l’industrie et conçoit et fabrique des mask aligners depuis plus de 35 ans.